中微公司(688012):刻蚀设备签单和收入高增长 薄膜类新品持续获得订单

时间:2024年03月19日 中财网
中微公司发布2023 年报,全年收入和利润同比稳健增长,刻蚀设备签单和收入同比高增长,大马士革和极高深宽比刻蚀设备验证顺利,薄膜类新品持续获得客户订单,维持“增持”投资评级。


  2023 全年收入和利润同比稳健增长,23Q4 扣非净利率同环比提升。1)2023全年:2023 全年收入62.6 亿元,同比+32%;毛利率45.8%,同比基本持平;归母净利润17.9 亿元,同比+52.7%;扣非归母净利润11.9 亿元,同比+29.6%;非经常损益主要来自出售拓荆科技股票产生税后收益约4.06 亿元;2)23Q4:23Q4 收入22.2 亿元,同比+31%/环比+46.7%;毛利率45.8%,同环比稳定;归母净利润6.3 亿元,同比+66%/环比+299%;扣非净利润4.6亿元,同比+66%/环比+113.2%;23Q4 扣非净利率20.6%,同比+4.4pcts/环比+6.4pcts。


  刻蚀设备贡献主要增长动力,MOCVD 设备收入短期承压。1)刻蚀设备:


  2023 年收入47 亿元,同比+49.4%;23Q4 收入18.3 亿元,同比+59.3%/环比+59.1%。公司ICP 和CCP 设备在国内主要客户产线市占率大幅提升,TSV 硅通孔刻蚀设备在先进封装和MEMS 器件得到更多应用;2)MOCVD设备:2023 年收入4.6 亿元,同比-34%;23Q4 收入0.5 亿元,同比-83.7%/环比-53.6%。MOCVD 设备短期承压,主要系下游LED 景气度下滑影响。


  刻蚀设备签单高增长,24Q1 发货机台增长较多。2023 全年新签订单83.6亿元,同比+32.3%,其中刻蚀设备新签订单69.5 亿元,同比+60%;MOCVD设备新签订单2.6 亿元,同比-72.2%,主要系终端市场波动影响。截至2023年底,公司存货为42.6 亿元,环比+1.7 亿元,主要系销售订单增长;公司合同负债为7.7 亿元,环比-5.9 亿元,主要系季节性因素,Q4 确认收入较多但因销售合同等因素,出货量不多,导致预收款增量不多;公司表示,24Q1机台发货量有较大增长。


  大马士革和极高深宽比CCP 设备验证顺利,ICP 设备工艺覆盖率大幅提升。


  1)CCP 设备:极高深宽比机台UD-RIE 已在DRAM 和3D NAND 产线上验证出具有刻蚀≥60:1 深宽比的能力;大马士革工艺机台SD-RIE 针对28nm以下,进入国内领先逻辑客户开展现场验证;晶圆边缘Bevel 刻蚀设备完成开发,即将进入客户验证;2)ICP 设备:Nanova VE HP 在先进逻辑和存储验证工艺覆盖率大幅提升;8/12 英寸ICP 机台Primo TSV 200E/300E 在晶圆级、2.5D 先进封装继续获得重复订单,在12 英寸3D TSV 工艺上成功验证,并在欧洲客户12 英寸微机电系统产线上获得验证机会。


  薄膜类钨沉积设备取得客户订单,EPI 设备等新品持续验证。1)MOCVD设备:Prismo Unimax 在Mini-LED 显示外延片生产设备领域处于国际领先地位;多款化合物外延设备交付客户验证;2)薄膜设备:完成多家逻辑和存储客户对CVD/HAR/ALD-W 钨设备的验证,并取得客户订单;进入原子层沉积设备和平板显示用PECVD 设备的开发;EPI 设备进入工艺和客户验证阶段;公司计划在2024 年推出超10 款新品,快速扩大工艺覆盖率;3)光学检测设备:通过投资上海睿励持续布局。


  投资建议。公司2023 年收入和利润同比稳健增长,新签订单同比高增长,刻蚀设备贡献主要增长动力。展望2024 年,下游头部晶圆厂设备采招节奏有望边际提速,或将带来国内设备签单增速边际改善,同时公司大马士革和极高深宽比刻蚀设备验证顺利,各新品加速突破,工艺覆盖率和市占率有望快速提升。我们调整公司2024/2025/2026 年收入至81.7、102.4、125.3 亿元,综合考虑其他非经常损益和股权激励费用影响,调整2024/2025/2026年归母净利润至20.6、25.5、31.4 亿元,对应PE 为46.7、37.7、30.6 倍。


  维持“增持”投资评级。


  风险提示:下游晶圆厂扩产不及预期,美国半导体设备出口管制加剧,新品研发不及预期,行业竞争加剧的风险。
□.鄢.凡./.曹.辉    .招.商.证.券.股.份.有.限.公.司
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