中微公司(688012):业绩稳健增长 刻蚀&薄膜沉积等多产品加速推进

时间:2024年03月20日 中财网
新品研发成效显著,公司业绩稳健增长。2023 年公司营业收入62.6 亿元,同比+32%,其中2023 年刻蚀设备销售47.0 亿元, 同比增长49%;MOCVD 设备销售4.6 亿元,同比下降34%;归母净利润17.9 亿元,同比+53%;扣非归母净利润11.9 亿元,同比+30%。


  产品结构优化&规模效应显著,盈利能力提升。 2023 年公司综合毛利率为45.8%,同比+0.1pct,分产品来看,专用设备毛利率为45.2%,同比-0.01pct,备品备件毛利率为48.3%,同比+1.4pct,其他产品毛利率为53.7%,同比-12.8pct;销售净利率为28.5%,同比+3.8pct;扣非归母净利率为19%,同比-0.3pct,期间费用率25%,同比+1.8pct,其中销售费用率7.9%,同比-0.8pct,管理费用率(含研发费用)18.53%,同比+0.8pct,财务费用率-1.4%,同比+1.8pct。


  存货高增,新签订单充沛。截至2023 年底公司存货为42.6 亿元,同比+25%,合同负债为7.7 亿元,同比-65%,主要系四季度因收入确认合同负债余额随之减少,同时因销售合同等因素,出货量不多,导致预收款增量不多,公司机台发货量在2024 年一季度有较大增长。公司2023 年新增订单金额83.6 亿元,同比+32.3%。其中刻蚀设备新增订单69.5 亿元,同比增长60.1%;由于中微的MOCVD 设备已经在蓝绿光LED 生产线上占据高市占率,受终端市场波动影响,2023 年MOCVD 设备订单同比下降72.2%。


  刻蚀产品持续领先,镀膜产品拓展顺利。(1)CCP 设备:在逻辑领域,已对28nm 以上的绝大部分CCP 刻蚀应用和28nm 及以下的大部分 CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖。在存储领域,超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出≥60:1 深宽比结构的能力。(2)ICP 设备:Primo nanova?ICP刻蚀产品已在超过20 家客户生产线上进行100 多个ICP 刻蚀工艺的验证,工艺覆盖3D NAND、DRAM 和逻辑芯片。(3)MOCVD 设备:积极布局第三代半导体设备,开发GaN 功率器件量产应用的MOCVD 设备,已在国内外领先客户产线进行验证并获得重复订单。(4)薄膜沉积设备:公司首台CVD 钨设备付运到关键存储客户端验证评估,已通过客户现场验证,满足金属互联钨制程各项性能指标,并获得客户重复量产订单,公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的ALD 氮化钛设备也在稳步推进,EPI 设备已进入工艺验证和客户验证阶段,以满足客户先进制程中锗硅外延生长工艺的电性和可靠性需求。


  盈利预测与投资评级:考虑到公司订单增长趋势,我们预计公司2024-2026 年归母净利润分别为20.83(原值19.94)/25.81(原值25.54)和36.37 亿元,当前对应动态PE 分别为46/37/26 倍。基于公司的高成长性,维持“买入”评级。


  风险提示:晶圆厂扩产节奏不及预期,新品研发&产业化不及预期等。
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