中微公司(688012)：刻蚀设备持续提升市占率 薄膜沉积设备快速扩大产品覆盖度

事件：近日公司发布2023 年年度报告，2023 年公司实现营收62.64亿元，同比+ 32.15%；归母净利润17.86 亿元，同比+ 52.67%；扣非归母净利润11.91 亿元，同比+ 29.58%。2023 年第四季度单季度实现营收22.22 亿元，同比+30.97%，环比+ 46.71%；归母净利润6.26 亿元，同比+66.14%，环比+299.11%；扣非归母净利润4.58 亿元，同比+66.13%，环比+113.18%。


　　投资要点：


　　刻蚀设备推动公司营收保持高速增长，MOCVD 设备短期有所承压。


　　受益于公司刻蚀设备市占率的持续提升，2023 年公司刻蚀设备营收为47.03 亿元，同比增长49.43%，刻蚀设备营收占比达75%，为推动公司2023 年营收高速增长的主要动力；受终端市场波动影响，2023 年公司MOCVD 设备营收为4.62 亿元，同比下降33.95%。


　　公司2023 年毛利率为45.83%，同比增长0.09%；由于公司2023年出售了部分持有的拓荆科技股份有限公司股票，产生税后净收益4.06 亿元，非经常性损益的大幅增加使得公司2023 年实现净利率为28.48%，同比提升3.84%。


　　公司刻蚀设备竞争优势突出，有望继续提升市占率，新增订单高速成长为后续业绩做好保障。在CCP 刻蚀设备方面，公司已有的刻蚀设备产品已经对28 纳米以上的绝大部分CCP 刻蚀应用和28 纳米及以下的大部分CCP 刻蚀应用形成较为全面的覆盖；针对 28纳米及以下的逻辑器件生产中广泛采用的一体化大马士革刻蚀工艺，公司开发的可调节电极间距的 CCP 刻蚀机 Primo SD-RIE 已进入国内领先的逻辑芯片制造客户开展现场验证，目前进展顺利。


　　在ICP 刻蚀设备方面，公司的 ICP 刻蚀设备在50 多个客户的生产线上量产，并持续进行更多刻蚀应用的验证；2023 年公司推出了适用于更高深宽比结构刻蚀的Nanova VE HP 和兼顾深宽比和均匀性的 Nanova LUX 两种ICP 设备，极大地扩展了ICP 刻蚀设备的验证工艺范围；Nanova VE HP 在DRAM 中的高深款比的多晶硅掩膜应用在客户的产线上认证成功，已获得批量重复订单；NanovaLUX 也已付运至多个客户的产线上开始认证。公司具有完整的单台和双台刻蚀设备布局、核心技术持续突破、产品升级快速迭代、刻蚀应用覆盖丰富等竞争优势，刻蚀设备有望继续提升市占率。公司2023 年新增订单83.6 亿元，同比增长32.3%，其中刻蚀设备新增订单69.5 亿元，同比增长约 60.1%，新增订单高速成长为后续业绩做好了保障。


　　薄膜沉积设备快速扩大产品覆盖度，有望成为公司未来新的业绩增长点。根据SEMI 的数据，2023 年全球集成电路前段设备市场规模约为950 亿美元；根据Gartner 的数据，薄膜沉积设备占晶圆制造设备价值量约23%，全球薄膜沉积设备市场空间广阔。公司近两年新开发的LPCVD 设备和ALD 设备，目前已有四款设备产品进入市场，其中三款设备已获得客户认证，并开始得到重复性订单，公司计划在 2024 年推出超过10 款新型薄膜沉积设备；公司新开发的硅和锗硅外延 EPI 设备、晶圆边缘 Bevel 刻蚀设备等多个新产品，也计划在 2024 年投入市场验证。公司在现有的金属 CVD 和ALD 设备研发基础上，已规划多款CVD 和ALD 设备，公司在薄膜沉积设备领域快速扩大产品覆盖度，有望成为公司未来新的业绩增长点。


　　盈利预测与投资建议。公司具有完整的单台和双台刻蚀设备布局、核心技术持续突破、产品升级快速迭代、刻蚀应用覆盖丰富等竞争优势，刻蚀设备有望继续提升市占率；公司在薄膜沉积设备领域快速扩大产品覆盖度，有望成为公司未来营收重要的增长点；公司在集成电路设备、泛半导体设备、非半导体设备领域三维布局，新增订单高速成长为后续业绩做好了保障；我们预计公司23-25 年营收为83.39/108.06/136.51 亿元， 23-25 年归母净利润为20.66/26.61/33.57 亿元 ，对应的EPS 为3.34/4.30/5.42 元，对应PE 为44.75/34.74/27.53 倍。考虑公司在刻蚀设备领域的竞争优势以及未来几年的成长性，首次覆盖给予“买入”投资评级。


　　风险提示：晶圆厂扩产进度不及预期风险，行业竞争加剧风险，新产品研发进展不及预期风险，国际贸易冲突加剧风险。

□.邹.臣    .中.原.证.券.股.份.有.限.公.司