华海清科(688120):CMP设备竞争优势持续提高 新产品开发以及验证顺利推进

时间:2024年04月30日 中财网
事件:


1.公司发布2023 年年度报告,2023 年度实现营收25.08 亿元,同比增加52.11%;实现归属于母公司所有者净利润7.24 亿元,同比增加44.29%;实现扣非归母净利润6.08 亿元,同比增加60.05%。


2.从Q4 单季度业绩来看,实现营收6.68 亿元,同比增加29.54%,环比增加10.21%;实现归属于母公司所有者净利润1.60 亿元,同比增加0.70%,环比减少15.81%;实现扣非归母净利润1.49 亿元,同比增加30.98%,环比减少1.91%。


3.公司发布2024 年第一季度报告,2024Q1 实现营收6.80 亿元,同比增加10.40%,环比增加1.88%;实现归属于母公司所有者净利润2.02 亿元,同比增加4.27%,环比增加26.49%;实现扣非归母净利润1.72 亿元,同比增加2.78%,环比增加15.36%。


23 年业绩同比大幅提高:


公司2023 年实现营业收入25.08 亿元,同比增长52.11%,其中CMP设备销售收入为22.78 亿元,同比增长59.20%;晶圆再生、关键耗材与维保服务等其他业务收入为2.30 亿元,同比增长5.55%,主要系受益于国内主要晶圆厂半导体设备国产替代快速推进,公司为国内CMP 设备龙头,份额快速提高。从盈利能力来看,2023 年公司归母净利润同比增加44.29%,扣非归母净利润同比增加60.05%,销售毛利率和净利率分别为46.02 %、24.25%,同比接近持平。从24Q1 来看,公司营收以及归母净利润同比均有提高,毛利率和净利率与去年同期相比保持稳定。


CMP 设备竞争优势不断加强,新产品开发以及验证顺利推进:


在CMP 设备方面,公司竞争优势持续提高。在新机型上,公司推出了Universal H300 机台,通过创新抛光系统架构设计,优化清洗技术模块,大幅提高了整机技术性能,适用工艺也更加灵活丰富,首台机台已发往客户端进行验证,已完成多道工艺的小批量验证,进展顺利,预计2024 年实现量产。在减薄设备方面,公司开发出Versatile-GP300 减薄抛光一体机,主要适用于先进封装领域和前道晶圆制造的背面减薄工艺,以满足3D IC 对超精密磨削、CMP 及清洗的一体化工艺需求,在客户端验证顺利。在划片设备,公司研发出满足集成电路、先进封装等制造工艺的12 英寸晶圆边缘切割设备,已经在2024 年上半年已发往某存储龙头厂商进行验证。在膜厚测量设备,公司应用于Cu、Al、W、Co 等金属制程的薄膜厚度测量设备已发往多家客户验 证,测量精度高、结果可靠、准确,已实现小批量出货,部分机台已通过验收。


投资建议:


我们预计公司2024 年~2026 年收入分别为35.11 亿元、45.65 亿元、54.78 亿元,归母净利润分别为10.12 亿元、13.93 亿元、14.44 亿元。考虑半导体器件专用设备制造行业国产替代加速,公司新产品研发顺利。给予公司2024 年PE35.00X 的估值,对应目标价222.95 元。给予“买入-A”投资评级。


风险提示:


新技术、新工艺、新产品无法如期产业化风险,行业与市场波动风险,国际贸易摩擦风险,产品生产成本上升风险。
□.马.良./.郭.旺    .国.投.证.券.股.份.有.限.公.司
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